EDI超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系规范的前提下,选用世界上的反渗透膜元件。能接受压力的容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水契合各类工业生产规范的超纯水。
EDI超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系规范的前提下,选用世界上的反渗透膜元件。能接受压力的容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水契合各类工业生产规范的超纯水。操控办理体系选用PLC程序操控,可完成主动起停、加药及冲刷,主动监测各种运转参数,并可完成运转参数的贮存及打印广泛适用于: 半导体资料、器材、印刷电路板和集成电路LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯资料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。
1.预处理体系-反渗透体系-中心水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精细过滤器-用水目标(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
2.预处理体系-反渗透体系-中心水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精细过滤器-用水目标 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)
3.预处理-反渗透-中心水箱-水泵-EDI设备-纯化水箱-纯水泵-紫外线μm精细过滤器-用水目标(≥18MΩ.CM)(工艺)
4.预处理-一级反渗透-加药机(PH调理)-中心水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI设备-紫外线MΩ.CM)(工艺)
5.预处理-反渗透-中心水箱-水泵-EDI设备-纯水箱-纯水泵-紫外线μm精细过滤器-用水目标(≥15MΩ.CM)(工艺)
●工业生产用水,如单晶硅超纯水设备、半导体纯水处理设备、集成电路块用水设备、IC芯片封装用水设备、显象管用水设备、玻壳超纯水处理
●LCD液晶清洗用水设备、光学水处理,光学玻璃清洗用水设备、光电超纯水设备
●热电厂用水、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、轿车制作清洗用水
主营产品:GE EDI膜块;KOCH 、DOW、GE 、Norit、RO/UF膜元件; Dow、Bayer、罗门哈斯、绿宝树脂;Arkal盘式过滤器;格兰富泵、米顿罗加药泵;环保填料、水处理药剂