EDI超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系规范的前提下，选用世界上的反渗透膜元件。能接受压力的容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水契合各类工业生产规范的超纯水。

  EDI超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系规范的前提下，选用世界上的反渗透膜元件。能接受压力的容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水契合各类工业生产规范的超纯水。操控办理体系选用PLC程序操控，可完成主动起停、加药及冲刷，主动监测各种运转参数，并可完成运转参数的贮存及打印广泛适用于： 半导体资料、器材、印刷电路板和集成电路LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯资料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。

  1.预处理体系－反渗透体系－中心水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精细过滤器－用水目标（≥15MΩ.CM）(传统工艺)

  2.预处理体系－反渗透体系－中心水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精细过滤器－用水目标 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)

  3.预处理－反渗透－中心水箱－水泵－EDI设备－纯化水箱－纯水泵－紫外线μm精细过滤器－用水目标（≥18MΩ.CM）(工艺)

  4.预处理－一级反渗透－加药机（PH调理）－中心水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI设备－紫外线MΩ.CM）(工艺)

  5.预处理－反渗透－中心水箱－水泵－EDI设备－纯水箱－纯水泵－紫外线μm精细过滤器－用水目标（≥15MΩ.CM）(工艺)

  ●工业生产用水，如单晶硅超纯水设备、半导体纯水处理设备、集成电路块用水设备、IC芯片封装用水设备、显象管用水设备、玻壳超纯水处理

  ●LCD液晶清洗用水设备、光学水处理，光学玻璃清洗用水设备、光电超纯水设备

  ●热电厂用水、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、轿车制作清洗用水

  主营产品：GE EDI膜块；KOCH 、DOW、GE 、Norit、RO/UF膜元件； Dow、Bayer、罗门哈斯、绿宝树脂；Arkal盘式过滤器；格兰富泵、米顿罗加药泵；环保填料、水处理药剂